一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法

授权公布号：CN115010367B

有效

申请

2022-05-26

申请公布

2022-09-06

授权

2023-12-08

预估到期

2042-05-26

申请号	CN202210582004.X
申请日	2022-05-26
申请公布号	CN115010367A
申请公布日	2022-09-06
授权公布号	CN115010367B
授权公告日	2023-12-08
分类号	C03C8/02;C03C8/14;C04B41/89
分类	玻璃；矿棉或渣棉;
申请人名称	蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请人地址	广东省佛山市南海区西樵轻纺城工业园

专利法律状态

2023-12-08 授权

状态信息

授权

2022-09-23 实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):C03C8/02；申请日:20220526

2022-09-06 公布

状态信息

公布

摘要

本发明涉及一种低温快烧全抛结晶釉、包含该全抛结晶釉的艺术岩板及制备方法，属于陶瓷建材领域。所述低温快烧全抛结晶釉的原料组成包括：以质量百分比计，结晶抛釉90‑99%，引晶干粒0.5‑5.0%，熔块0.5‑5.0%；所述引晶干粒的化学组成包括：以质量百分比计，Na2O：5.0‑8.0%；SiO2：20‑40%；Al2O3：5.0‑10%；ZnO：30‑60%；TiO2：1.0‑8.0%。