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公司信息商标信息专利信息
授权公布号:CN114686819B
一种坩埚盖及坩埚
有效
申请
2020-12-28
申请公布
2022-07-01
授权
2024-02-09
预估到期
2040-12-28
申请号 CN202011586764.5
申请日 2020-12-28
申请公布号 CN114686819A
申请公布日 2022-07-01
授权公布号 CN114686819B
授权公告日 2024-02-09
分类号 C23C14/26
分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称 TCL科技集团股份有限公司
申请人地址 广东省惠州市仲恺高新区惠风三路17号TCL科技大厦

专利法律状态

2024-02-09 授权
状态信息
授权
2022-07-19 实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):C23C14/26;申请日:20201228
2022-07-01 公布
状态信息
公布

摘要

本发明公开一种坩埚盖及坩埚,其中,所述坩埚盖包括坩埚盖本体以及设置在所述坩埚盖本体上的加热棒组件。本发明通过在所述坩埚盖本体上设置有加热棒组件,所述坩埚盖在坩埚加热时,所述加热棒组件也一并加热,由于所述加热棒组件可插入粉体材料中,使得位于坩埚内中心的粉体材料也能与加热源充分接触,从而提高了粉体材料的受热面积,使其受热更加均匀稳定;并且所述加热棒组件还可将所述坩埚盖本体一并加热,有效避免粉体材料在升华过程中冷凝堵孔;进一步地,所述加热棒组件作为热源后,提高了粉体材料的加热效率。