授权公布号:CN110494804B
纳米压印模具及其制造方法、使用纳米压印模具的图案转印方法
有效
申请
2019-07-11
申请公布
2019-11-22
授权
2024-03-26
预估到期
2039-07-11
| 申请号 | CN201980001025.4 |
| 申请日 | 2019-07-11 |
| 申请公布号 | CN110494804A |
| 申请公布日 | 2019-11-22 |
| 授权公布号 | CN110494804B |
| 授权公告日 | 2024-03-26 |
| 分类号 | G03F7/00;B82Y40/00 |
| 分类 | 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕; |
| 申请人名称 | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 申请人地址 | 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |
专利法律状态
2024-03-26
授权
状态信息
授权
2019-11-22
公布
状态信息
公布
摘要
本公开涉及纳米压印模具。纳米压印模具可以包括衬底基板。衬底基板可以包括主区域和围绕主区域的次区域。主区域可以包括模具结构,并且模具结构可以包括多个第一凹部和多个第一凸部。次区域可以包括栅结构,并且栅结构可以包括多个第二凹部和多个第二凸部。第二凸部中的至少一个的高度大于第一凸部中的至少一个的高度。


