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公司信息商标信息专利信息
授权公布号:CN110494804B
纳米压印模具及其制造方法、使用纳米压印模具的图案转印方法
有效
申请
2019-07-11
申请公布
2019-11-22
授权
2024-03-26
预估到期
2039-07-11
申请号 CN201980001025.4
申请日 2019-07-11
申请公布号 CN110494804A
申请公布日 2019-11-22
授权公布号 CN110494804B
授权公告日 2024-03-26
分类号 G03F7/00;B82Y40/00
分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
申请人名称 京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利法律状态

2024-03-26 授权
状态信息
授权
2019-11-22 公布
状态信息
公布

摘要

本公开涉及纳米压印模具。纳米压印模具可以包括衬底基板。衬底基板可以包括主区域和围绕主区域的次区域。主区域可以包括模具结构,并且模具结构可以包括多个第一凹部和多个第一凸部。次区域可以包括栅结构,并且栅结构可以包括多个第二凹部和多个第二凸部。第二凸部中的至少一个的高度大于第一凸部中的至少一个的高度。