授权公布号:CN203433245U
电子狭缝光栅、立体显示装置
审中
申请
2013-08-09
申请公布
1970-01-01
授权
2014-02-12
预估到期
2023-08-09
| 申请号 | CN201320487592.5 |
| 申请日 | 2013-08-09 |
| 授权公布号 | CN203433245U |
| 授权公告日 | 2014-02-12 |
| 分类号 | G02F1/155;G02B27/22 |
| 分类 | 光学; |
| 申请人名称 | 深圳市亿思达科技集团有限公司 |
| 申请人地址 | 广东省深圳市南山区高新中三道环球数码大厦806室 |
专利法律状态
2016-03-23
专利权的无效、部分无效宣告
状态信息
专利权全部无效;IPC(主分类):G02F1/155;授权公告日:20140212;无效宣告决定日:20150608;无效宣告决定号:26077
2015-01-07
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
状态信息
专利权人的姓名或者名称、地址的变更;IPC(主分类):G02F1/155;变更事项:专利权人;变更前:深圳市亿思达显示科技有限公司;变更后:深圳市亿思达科技集团有限公司;变更事项:地址;变更前:518000 广东省深圳市南山区高新区南区数字技术园B1栋2楼C区;变更后:518000 广东省深圳市南山区高新中三道环球数码大厦806室
2014-02-12
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种电子狭缝光栅、立体显示装置。所述电子狭缝光栅,包括依次层叠设置的第一基板、上电极结构、电致变色结构、下电极结构以及第二基板,所述下电极结构包括至少两层电极层,且每一电极层均包括多个沿同一方向延伸的条形电极,所述至少两层电极层中的条形电极彼此相互平行、间隔且电气绝缘设置,处于不同电极层的条形电极对应彼此之间的间隙而相互交替设置,使所述多个条形电极在所述第二基板上的投影为无缝投影,完整覆盖该投影区域对应的电致变色结构。本实用新型电子狭缝光栅能够调节其栅距、透光狭缝的宽度、透光狭缝的位置等参数。所述立体显示装置包括上述电子狭缝光栅。


