授权公布号:CN218455969U
无限镜面反射装置及水冷头
有效
申请
2022-09-07
申请公布
1970-01-01
授权
2023-02-07
预估到期
2032-09-07
| 申请号 | CN202222404955.6 |
| 申请日 | 2022-09-07 |
| 授权公布号 | CN218455969U |
| 授权公告日 | 2023-02-07 |
| 分类号 | G09F13/14;G09F19/16 |
| 分类 | 教育;密码术;显示;广告;印鉴; |
| 申请人名称 | 北京市九州风神科技股份有限公司 |
| 申请人地址 | 北京市海淀区地锦路9号院10号楼1至4层101 |
专利法律状态
2023-02-07
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种无限镜面反射装置及水冷头,其中无限镜面反射装置包括反射机构,且反射机构包括:发光单元以及双镜面单元。发光单元用以发射出光线。以及双镜面单元的底部与发光单元的顶部固定连接,且双镜面单元包括:镜面层、第一电镀层及第二电镀层。镜面层的顶部具有第一镜面,且镜面层的底部具有第二镜面。第一电镀层附着紧贴于第一镜面的上方。第二电镀层附着紧贴于第二镜面的下方,且第二电镀层上附着有图案显示区域。借此,本实用新型的无限镜面反射装置,结构简单合理,节省了成本,且反射效果好,装配简单。


