本实用新型涉及一种用于胶带基材表面处理的等离子体发生设备辅助工作平台，包括：等离子体喷头移动平台，所述等离子体喷头移动平台使等离子体喷头沿横向以设定的速度移动；待处理基材移动平台，所述待处理基材移动平台使待处理基材沿纵向以设定的速度移动；所述等离子体喷头移动平台位于待处理基材移动平台的上方，两个移动平台相配合使待处理基材表面各个位置均能得到等离子体处理。本实用新型辅助工作平台使等离子处理操作更加方便，处理效果稳定，不同的使用人员可以根据预先确定的速度和强度，高效的实现表面处理，减少了表面处理给后续实验差异带来的影响。