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公司信息专利信息
授权公布号:CN1229173C
一种有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法
失效
申请
2002-08-23
申请公布
2003-09-03
授权
2021-05-25
预估到期
2022-08-23
申请号 CN02136615.2
申请日 2002-08-23
申请公布号 CN1439452A
申请公布日 2003-09-03
授权公布号 CN1229173C
授权公告日 2021-05-25
分类号 B01F17/54
分类 一般的物理或化学的方法或装置;
申请人名称 上海制皂有限公司
申请人地址 上海市杨树浦路2310号

专利法律状态

2021-05-25 授权
状态信息
授权
2016-10-19 专利权的终止
状态信息
未缴年费专利权终止;IPC(主分类):B01F 17/54;申请日:20020823;授权公告日:20051130;终止日期:20150823
2005-11-30 发明专利权授予
状态信息
授权
2003-11-19 实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效
2003-09-03 发明专利申请公布
状态信息
公布

摘要

一种有机硅阴离子表面活性剂及其合成方法,其结构通式如下:∴m=10-2000,n=1-200R=CH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>NHZ或CH<SUB>2</SUB>NHCH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>NHZ或CH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>NHCH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>NHZ或(CH<SUB>2</SUB>)<SUB>3</SUB>NHCH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>NHCH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>NHZZ=CH<SUB>2</SUB>CHOHCH<SUB>2</SUB>SO<SUB>3</SUB>M或C<SUB>2</SUB>H<SUB>4</SUB>SO<SUB>3</SUB>M或CH<SUB>2</SUB>CHOHCH<SUB>2</SUB>OPO<SUB>3</SUB>M或CH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>CH<SUB>2</SUB>SO<SUB>3</SUB>MM=Na,K,NH<SUB>4</SUB>该有机硅阴离子表面活性剂合成方法为:合成氨烃基聚硅氧烷,经缩合反应将氨烃基聚硅氧烷引入亲水基。本发明的优点是所用的原料易得,价格低廉,反应条件简单易行,收率较高,易于工业化生产。该表面活性剂具有乳化,分散,润湿,抗静电,消泡,稳泡,起泡,柔软、滑爽等性能,可用于日化、食品、生物工程、轻工、纺织、石油化工、电子、医药、农药等领域。