本发明公开了一种远红外负离子日用陶瓷的原料研磨设备及研磨工艺，属于陶瓷原料研磨技术领域，壳体的内部设有固定研磨盘一、固定研磨盘二，壳体的内部通过两个固定研磨盘分隔成研磨腔和储料腔一、储料腔二，壳体的内部设有一个可驱动移动研磨盘、转动研磨盘一、转动研磨盘二进行转动还可同时驱动移动研磨盘左右移动的驱动机构。电机在转动时，不仅会带动转轴一、转轴二转动并使固定套接在转轴一、转轴二上的转动研磨盘一、转动研磨盘二进行转动并对陶瓷原料进行研磨，同时还能使固定套接在连接轴上的移动研磨盘能够以旋转挤压的形式对陶瓷原料进行研磨，该种通过对陶瓷原料进行两次研磨的设置，大大提高了该装置对陶瓷原料的研磨效果。