授权公布号:CN110218563B
一种刻蚀浆料及其制备方法和应用以及太阳能电池的制造方法
有效
申请
2019-06-11
申请公布
2019-09-10
授权
2021-04-06
预估到期
2039-06-11
| 申请号 | CN201910500983.8 |
| 申请日 | 2019-06-11 |
| 申请公布号 | CN110218563A |
| 申请公布日 | 2019-09-10 |
| 授权公布号 | CN110218563B |
| 授权公告日 | 2021-04-06 |
| 分类号 | H01L21/306;H01L31/18;C09K13/06 |
| 分类 | 染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用; |
| 申请人名称 | 厦门市豪尔新材料股份有限公司 |
| 申请人地址 | 福建省厦门市翔安区火炬高新区(翔安)产业区翔虹路29号 |
专利法律状态
2021-04-06
授权
状态信息
授权
2019-10-08
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效
2019-09-10
公布
状态信息
公布
摘要
本发明属于太阳能电池领域,具体涉及一种刻蚀浆料及其制备方法和应用以及太阳能电池的制造方法。所述刻蚀浆料含有水性基体树脂、水性增稠树脂、填料和酸液,所述水性基体树脂在150~170℃下高温烘烤之后基本不会变稀且具有耐酸性。与激光刻蚀对比,本发明采用特定的刻蚀浆料进行刻蚀开槽的速度更快,不会损伤非晶硅基材;与光刻胶‑湿法刻蚀相比,本发明采用特定的刻蚀浆料进行刻蚀开槽能够以更低的成本实现相当的刻蚀效果;与遮蔽油墨‑湿法刻蚀相比,本发明采用特定的刻蚀浆料进行刻蚀开槽的工艺刻蚀浆料残留更少,工艺更为简单(工序减少了一半)、成本更低。


