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公司信息商标信息专利信息
授权公布号:CN113514155B
一种无快门的非均匀校正的方法
有效
申请
2021-04-13
申请公布
2021-10-19
授权
2023-04-28
预估到期
2041-04-13
申请号 CN202110393052.X
申请日 2021-04-13
申请公布号 CN113514155A
申请公布日 2021-10-19
授权公布号 CN113514155B
授权公告日 2023-04-28
分类号 G01J5/00;G01J5/53
分类 测量;测试;
申请人名称 武汉华中数控股份有限公司
申请人地址 湖北省武汉市东湖新技术开发区庙山小区华中科技大学科技园

专利法律状态

2023-04-28 授权
状态信息
授权
2021-11-05 实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G01J5/00;申请日:20210413
2021-10-19 公布
状态信息
公布

摘要

本发明提供了一种无快门的非均匀校正的方法,在探测器工作范围内,分别采集四个不同温度黑体的本底,连续十张本底求均值,去除时域噪声,保存本底。根据机芯的温度分别拟合四个不同温度黑体的本底,同时计算其均值,根据均值和像素值构建多段函数,原始图像经过导向滤波计算其均值,根据这个均值计算新本底,同时根据这个均值,判断计算增益所需的高温本底和低温本底。实时计算本底和增益,考虑了探测器温度和环境温度对红外图像非均匀校正的影响。本发明无需快门,不仅不会中断探测器工作过程,还能节约成本,同时能解决温漂问题,能够自适应的校正红外图像。