授权公布号:CN110473681B
一种镍磷层埋置电阻化学精细调阻方法及腐蚀剂
有效
申请
2019-08-27
申请公布
2019-11-19
授权
2021-08-10
预估到期
2039-08-27
| 申请号 | CN201910793565.2 |
| 申请日 | 2019-08-27 |
| 申请公布号 | CN110473681A |
| 申请公布日 | 2019-11-19 |
| 授权公布号 | CN110473681B |
| 授权公告日 | 2021-08-10 |
| 分类号 | H01C17/00;H01C17/14;C23F1/18 |
| 分类 | 基本电气元件; |
| 申请人名称 | 博敏电子股份有限公司 |
| 申请人地址 | 广东省梅州市经济开发试验区东升工业园 |
专利法律状态
2021-08-10
授权
状态信息
授权
2019-12-13
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效IPC(主分类):H01C 17/00
2019-11-19
公布
状态信息
公布
摘要
本发明公开了一种镍磷层埋置电阻化学精细调阻方法,属于电路板技术领域,主要解决的是现有调阻方式不能精细均匀地调节阻值的技术问题,所述方法首先测量调阻前电阻的初始阻值R1,通过控制所述电阻在用于腐蚀镍磷合金层的腐蚀剂中的浸泡时间T得到所述电阻的目标阻值R2。本发明公开了一种镍磷层埋置电阻化学精细调阻腐蚀剂。本发明仅腐蚀镍磷合金层,同时腐蚀更为均匀,通过控制时间能够有效精细地控制电阻变化情况,从而得到目标电阻值,提升了电阻控制精度。


