本发明公开了一种同时制备氟化氢及晶体硅产品的微波等离子体装置，该装置包括微波源、波导系统、等离子体发生器、进气装置和冷却装置。所述微波源为中心频率为2.45 GHz，输出功率为3 kW的磁控管及其驱动电源；所述波导系统包括环行器、水负载、耦合器及三销钉调谐器；所述等离子体发生器为窄边压缩的标准BJ‑22矩形波导，并在距终端在四分之一处开孔，插入氮化硼管用以束缚等离子体炬；所述进气装置为带有真空泵和流量计的三路进气装置；所述冷却装置为带有压力及温度监控的水冷装置。将原料气体四氟化硅及氢气通入本发明装置中，经过等离子体碰撞反应，直接生成氟化氢气体及晶体硅，无其它处理流程及副产物，工艺简单，成本低廉，可用于大规模化工应用。