本实用新型涉及半导体制造设备技术领域，公开一种锅帮及直拉单晶炉，其中的锅帮包括：锅帮本体，锅帮本体包括底盘和围壁，其中，围壁沿底盘的顶部开口边缘延伸设置，底盘和围壁围成用于容纳坩埚的内腔，底盘和围壁连接处形成拐角结构；锅帮还包括内保护层，内保护层至少覆盖拐角结构内侧壁，内保护层用于通过与拐角结构相对的部分托住坩埚。通过在锅帮本体内部设置内保护层，内保护层将锅帮本体受坩埚挤压力最大腐蚀最严重的拐角结构处覆盖，可以最大程度减缓锅帮本体的腐蚀，只需要更换内保护层，而不必更换锅帮整体，降低成本，降低工作量。