本发明提供一种双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜方法，具有第一镀膜室、第二镀膜室、室外装卸工位以及集热管小车，所述第一镀膜室的真空腔体内设有若干根直流磁控溅射靶，所述第二镀膜室设有数根直流磁控溅射靶与数根中频磁控溅射靶；通过在第一镀膜室完成红外反射涂层镀膜工艺，在第二镀膜室完成选择性吸收涂层镀膜工艺，周而复始地高效完成镀膜工作；在工作过程中，第二镀膜室始终保持真空，而第一镀膜室在破真空时使用干燥空气来填充，有效避免了湿空气、污染物影响镀膜质量。