本实用新型提供一种双室三工位多靶共溅磁控溅射镀膜设备，是在第一镀膜室、第二镀膜室以及室外装卸工位中都布置有拨盘、轨道以及集热管小车，第一镀膜室布置有直流磁控溅射靶，第二镀膜室同时布置有直流磁控溅射靶与中频磁控溅射靶，在第一镀膜室与第二镀膜室之间设置真空通道，第一镀膜室与室外装卸工位之间设置连接通道。使用的时候，第一镀膜室一方面作为过渡室使用，用于在第二镀膜室以及室外装卸工位之间交换集热管小车，另一方面可以完成金属红外反射涂层镀膜，而第二镀膜室可以一直保持在真空状态，并完成选择性吸收涂层镀膜以及减反层镀膜，如此周转使用，能够减小设备规模的前提下，尽量提高生产效率与镀膜质量。