本实用新型公开一种施釉系统，包括：机架、输送装置、淋釉装置和接釉槽；输送装置设于所述机架上，所述输送装置包括第一输送段和第二输送段，所述第一输送段和第二输送段之间留有过釉空间，输送装置上设有输送面，输送面包括第一输送段和第二输送段的上侧面；淋釉装置设于所述机架上且位于所述输送装置的上方，淋釉装置包括位于过釉空间的正上方的落釉部；接釉槽位于所述落釉部的正下方，所述接釉槽在上下方向上位置可调且可穿过所述过釉空间，所述接釉槽可调至所述输送面的上方或下方。有益效果为：施釉系统能方便地在“施釉状态”和“非施釉状态”两种模式之间进行切换，减少对釉料的浪费，降低瓷砖生产成本。