本实用新型提供了一种高均匀度陶瓷喷砂装置，包括：支架结构、进料漏斗、喷砂机构、承载平台、用于供承载平台安装于其上并在水平范围内振动所述承载平台的振动机构；所述进料漏斗以及所述喷砂机构均设置于所述支架结构上，所述进料漏斗的出料口设置有多个用于出料的出料管，每一所述出料管分别通过一传输管与所述喷砂机构连接，所述喷砂机构位于所述承载平台上方以用于朝向所述承载平台上的瓷砖进行喷砂。本实用新型可以提高高均匀度陶瓷喷砂装置喷砂的均匀性。