本实用新型公开了一种磁控溅射圆柱靶的靶芯结构，它是真空镀膜技术中磁控溅射镀圆柱靶的核心部分，它在靶管内部，在芯铁上面安装有多条长条形强磁钢，两个端部装有两条弱磁钢，芯铁外面有封闭的不锈钢罩隔水装置，防止磁钢浸在水里，这样可以延长磁钢的使用寿命，节约磁钢，解决了磁控溅射圆柱靶的靶材两端溅射后出现凹槽的缺陷，使靶材的利用率提高一倍。它解决了磁控溅射圆柱靶使用中磁钢使用寿命短，靶材利用率低的两个技术难题。