本实用新型公开一种离子增强型的卷绕式磁控光学镀膜装置，包括旋转辊、镀膜室和氧化室，沿基材的输送方向，旋转辊的外侧依次设有镀膜室和氧化室，旋转辊内侧与氧化室的相对之处设有磁铁组件，磁铁组件中，任意相邻的两个磁铁之间，朝向氧化室的端部极性相反；氧化室内设有进气管，进气管与旋转辊之间连接有电池。本实用新型是在基材镀完氧化硅后，通过增加氧离子密度来加强膜层的氧化效果，从而提高膜层中氧化硅的纯度和膜层透明度，进而提高膜层的光学性能。