本实用新型公开一种多室磁控多层光学镀膜设备及其升降式真空门阀机构，镀膜设备包括依次连接的工件进出装置、预处理室、工件进出转换室和镀膜室，预处理室和多个镀膜室分布于工件进出转换室外周。其升降式真空门阀机构包括门阀本体、第二卷扬机、第二导向轮和门阀压紧气缸，门阀本体设于工件进出转换室的通道外侧，门阀本体外侧设有门阀压紧气缸，第二卷扬机安装于工件进出转换室顶部，第二卷扬机的钢丝绳一端与门阀本体的顶部固定连接，门阀本体两侧还设有第二导向轮。本实用新型可有效改善各镀膜室之间的真空度均匀性，从而改善镀膜后工件膜层性能的一致性，提高工件镀膜质量。