本发明公开一种柔性基材镀厚膜用的镀膜设备及方法，其设备包括依次连接的放卷室、离子处理室、多个镀膜室和收卷室，离子处理室和多个镀膜室沿镀膜水冷辊的外周进行分布，放卷室和收卷室分别设于镀膜水冷辊的两侧；多个镀膜室中，位于中部的镀膜室中设置连续式蒸发镀膜源，其余各镀膜室中设置中频磁控靶。其方法是柔性基材完成离子处理后，沿镀膜水冷辊的转动依次送入各个镀膜室中，先由中频磁控靶对柔性基材表面进行至少一次溅射镀膜，然后通过连续式蒸发镀膜源对柔性基材进行蒸发镀膜，再由中频磁控靶对柔性基材表面进行至少一次溅射镀膜，最后送出。本发明可实现柔性基材表面厚膜层的镀制，镀膜效率高，膜层表面均匀性也高。