本公开提出一种喷头，其包括本体，所述本体具有流体入口和一个或多个流体喷洒部，每个流体喷洒部具有一个或多个流体出口。其中，在所述本体的每个流体喷洒部处、在所述流体出口的下游处设置有喷片，所述喷片具有至少两个喷孔。其中，流体从所述流体入口进入所述喷头，并在喷头的所述一个或多个流体喷洒部处经由本体的流体出口以及喷片的喷孔从所述喷头流出。其中，在所述本体的每个流体喷洒部处设置有定位结构，所述定位结构配置为与所述喷片的一部分配合，以阻止喷片绕其轴向方向的旋转运动。