授权公布号:CN114356201B
一种书写美化方法、装置、设备和可读存储介质
有效
申请
2021-12-23
申请公布
2022-04-15
授权
2024-02-20
预估到期
2041-12-23
| 申请号 | CN202111592814.5 |
| 申请日 | 2021-12-23 |
| 申请公布号 | CN114356201A |
| 申请公布日 | 2022-04-15 |
| 授权公布号 | CN114356201B |
| 授权公告日 | 2024-02-20 |
| 分类号 | G06F3/0488;G06F3/0354;G06T5/70 |
| 分类 | 计算;推算;计数; |
| 申请人名称 | 科大讯飞股份有限公司 |
| 申请人地址 | 安徽省合肥市高新开发区望江西路666号 |
专利法律状态
2024-02-20
授权
状态信息
授权
2022-05-03
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):G06F3/0488;申请日:20211223
2022-04-15
公布
状态信息
公布
摘要
本申请公开了一种书写美化方法、装置、设备和可读存储介质,该方法包括:采集多个书写轨迹点的信息,进行笔宽估计得到笔宽,并依次利用改进的三阶贝塞尔算法进行轨迹平滑得到多个插值轨迹点的信息,其中改进的三阶贝塞尔算法使用的控制点包括当前处理的书写轨迹点及其前三个书写轨迹点,多个插值轨迹点在当前处理的书写轨迹点之前的第一个书写轨迹点与第二个书写轨迹点之间,计算每个笔段的外轮廓,通过上述方式,每获取到一个书写轨迹点,就利用它更新改进的三阶贝塞尔算法的控制点,并对它之前的第一个书写轨迹点和第二个书写轨迹点之间进行平滑,能够降低电子屏书写平滑的延迟,也就能够降低电子屏书写美化的延迟。


