一种高强度低介电聚酰亚胺薄膜及其制备方法

授权公布号：CN114479456B

有效

申请

2021-12-28

申请公布

2022-05-13

授权

2023-09-22

预估到期

2041-12-28

申请号	CN202111632402.X
申请日	2021-12-28
申请公布号	CN114479456A
申请公布日	2022-05-13
授权公布号	CN114479456B
授权公告日	2023-09-22
分类号	C08L79/08;C08L61/22;C08J5/18;C08G12/04;C08G73/10
分类	有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物;
申请人名称	安徽国风新材料股份有限公司
申请人地址	安徽省合肥市高新区铭传路1000号

专利法律状态

2023-09-22 授权

状态信息

授权

2023-09-15 著录事项变更

状态信息

著录事项变更；IPC(主分类):C08L79/08；变更事项:申请人；变更前:安徽国风塑业股份有限公司；变更后:安徽国风新材料股份有限公司；变更事项:地址；变更前:230000 安徽省合肥市高新区铭传路1000号；变更后:230000 安徽省合肥市高新区铭传路1000号

2022-05-31 实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):C08L79/08；申请日:20211228

2022-05-13 公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种高强度低介电聚酰亚胺薄膜，是将含纳米COFs材料的聚酰胺酸溶液经过流延成膜、热亚胺化和双向拉伸得到；其中纳米COFs材料是以化合物C、2,5‑二乙氧基苯‑1,4‑二（甲酰肼）和均苯三甲醛为原料，在溶剂中经过缩聚反应得到。本发明还公开了上述高强度低介电聚酰亚胺薄膜的制备方法。本发明的聚酰亚胺薄膜具有介电常数低、力学性能好、玻璃化转变温度和热稳定性高的优点，可应用于高频通信的电子设备中。