本实用新型公开了一种具有降温结构的光气化反应生产异氰酸酯装置，涉及化工产品生产设备技术领域，包括防护底座和设置在防护底座上端的降温组件，降温组件一侧设置有储水组件，降温组件内部设置有制备罐组件，储水组件与降温组件之间设置有软管部件，防护底座包括凹型底座和设置在凹型底座两侧的夹持部件，降温组件包括设置在凹型底座上端的安装腔体和活动连接在凹型底座上端的腔盖，安装腔体一侧设置有通风口，这种设置中增添的混合部件可以加快制备罐组件内部的光气化反应效率，设置的防护底座可有利于装置避免在受到外力影响时，而发生晃动或倾倒的情况，提升装置的使用效率和安全性。