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公司信息商标信息专利信息
授权公布号:CN209690966U
一种大尺寸大增益抗金属平面标签
有效
申请
2019-04-19
申请公布
1970-01-01
授权
2019-11-26
预估到期
2029-04-19
申请号 CN201920535836.X
申请日 2019-04-19
授权公布号 CN209690966U
授权公告日 2019-11-26
分类号 G06K19/077
分类 计算;推算;计数;
申请人名称 华大半导体有限公司
申请人地址 上海市浦东新区自由贸易试验区亮秀路112号A座303-304室

专利法律状态

2019-11-26 授权
状态信息
授权

摘要

本实用新型公开了一种大尺寸大增益抗金属平面标签,包括:天线、芯片、和介质层;该天线包括辐射面,在该辐射面上设置有第一缝隙和第二缝隙组,该第一缝隙起于该辐射面的边缘处,该第二缝隙组包括多个缝隙,该第一缝隙连接至所述第二缝隙组的中点,即该第二缝隙组对于该第一缝隙呈对称分布;芯片位于所述第一缝隙上;介质层位于该天线的不设置有芯片的另一面上。本实用新型是可以应用于金属表面上的大增益标签,识别距离非常远。