自动曝光的方法及装置_专利查询-品牌网

授权公布号：CN102262330B

自动曝光的方法及装置

有效

申请

2010-05-25

申请公布

2011-11-30

授权

2016-05-11

预估到期

2030-05-25

申请号	CN201010189938.4
申请日	2010-05-25
申请公布号	CN102262330A
申请公布日	2011-11-30
授权公布号	CN102262330B
授权公告日	2016-05-11
分类号	G03B7/08
分类	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕;
申请人名称	北京中星微电子有限公司
申请人地址	北京市海淀区学院路35号世宁大厦16层

2018-04-13 专利权人的姓名或者名称、地址的变更

状态信息

专利权人的姓名或者名称、地址的变更；IPC(主分类):G03B7/08；变更事项:专利权人；变更前:中星技术有限公司；变更后:中星技术股份有限公司；变更事项:地址；变更前:100083 北京市海淀区学院路35号世宁大厦16层；变更后:100083 北京市海淀区学院路35号世宁大厦16层

2018-01-09 专利申请权、专利权的转移

状态信息

专利权的转移；IPC(主分类):G03B7/08；登记生效日:20171221；变更事项:专利权人；变更前:北京中星微电子有限公司；变更后:中星技术有限公司；变更事项:地址；变更前:100083 北京市海淀区学院路35号世宁大厦15层；变更后:100083 北京市海淀区学院路35号世宁大厦16层

2016-05-11 授权

状态信息

授权

2013-03-27 实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):G03B7/08；申请日:20100525

2011-11-30 公布

状态信息

公布

本发明公开了自动曝光的方法，用于实现对图像的自动曝光，以提高图像的显示效果。所述方法包括：判断图像的亮度值是否属于预设的亮度区间；在图像的亮度值属于亮度区间时，判断图像中是否有过曝区域；在有过曝区域时，调整自动曝光参数值，以减少对图像的曝光。本发明还公开了用于实现所述方法的装置。