本发明属于抛光工具加工技术领域，具体涉及一种抛光垫及其制备方法。本发明的抛光垫的磨料层由以下质量百分比的组分组成：聚集体磨料10‑22％、偶联剂1‑5％、树脂结合剂45‑65％、碳酸钙10‑20％、氧化铈10‑20％、气相二氧化硅1‑5％、碳酸氢钠1‑5％、细丝纤维1‑3％。本发明的抛光垫磨料层中，碳酸氢钠作为成孔剂可以在固化过程中分解，产生微小气孔，有利于抛光垫抛光时进行排屑，有利于抛光效率的稳定，氧化铈、碳酸钙、气相二氧化硅、纳米氧化铝等作为填充材料能够保证工作层的强度，并且，氧化铈用作辅助磨料，气相二氧化硅能够防沉降使浆料成分均匀，细丝纤维在磨料层成型时起到骨架支撑的作用。