提高同步双面喷绘双面对位精度的装置

授权公布号：CN207257127U

提高同步双面喷绘双面对位精度的装置

有效

申请

2017-09-06

申请公布

1970-01-01

授权

2018-04-20

预估到期

2027-09-06

申请号	CN201721138594.8
申请日	2017-09-06
授权公布号	CN207257127U
授权公告日	2018-04-20
分类号	B41J3/60;D06B23/04;D06P7/00
分类	印刷；排版机；打字机；模印机〔4〕;
申请人名称	沈阳飞行船数码喷印设备有限公司
申请人地址	辽宁省沈阳经济技术开发区三号街2甲5号

专利法律状态

2019-06-25 专利申请权、专利权的转移

状态信息

专利权的转移；IPC(主分类):B41J3/60；专利号:ZL2017211385948；登记生效日:20190606；变更事项:专利权人；变更前权利人:沈阳飞图喷印设备有限公司；变更后权利人:沈阳飞行船数码喷印设备有限公司；变更事项:地址；变更前权利人:110141 辽宁省沈阳市张士经济技术开发区三号街2甲5号；变更后权利人:110000 辽宁省沈阳经济技术开发区三号街2甲5号

2018-04-20 实用新型专利权授予

状态信息

授权

摘要

本实用新型属于同步双面喷绘领域，具体地说是一种提高同步双面喷绘双面对位精度的装置，喷绘介质在放布辊与收布辊之间进行走布，通过正面喷绘单元和背面喷绘单元分别对喷绘介质的正面、背面进行喷绘，并在正面喷绘与背面喷绘之间进行换面；在正面喷绘与背面喷绘之间，通过对所述喷绘介质进行松紧调整，实现双面对位精度的修正，提高双面对位精度。本实用新型在正面喷绘与背面喷绘之间，对喷绘介质的不同部位通过导布装置进行松紧调整，达到了修正双面对位精度的目的，提高了双面喷绘对位精度。