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授权公布号:CN117585649B
一种具有优异光电性能的碲化镉靶材的制备方法及碲化镉薄膜
有效
申请
2024-01-19
申请公布
2024-02-23
授权
2024-03-26
预估到期
2044-01-19
申请号 CN202410078481.1
申请日 2024-01-19
申请公布号 CN117585649A
申请公布日 2024-02-23
授权公布号 CN117585649B
授权公告日 2024-03-26
分类号 C01B19/04;C23C14/06;C23C14/34
分类 无机化学;
申请人名称 广州市尤特新材料有限公司
申请人地址 广东省广州市花都区花山镇华侨科技工业园华辉路4号

专利法律状态

2024-03-26 授权
状态信息
授权
2024-02-23 公布
状态信息
公布

摘要

本发明属于半导体材料技术领域,本发明具体公开了一种具有优异光电性能的碲化镉靶材的制备方法及碲化镉薄膜,所述制备方法包括以下步骤:(1)将碲粉、镉粉、碲化镉粉混合均匀,得到混合粉体;(2)将多壁碳纳米管、氯化镉分散于PVP‑K90水溶液中,搅拌均匀,得到改性液;(3)将混合粉体加入到改性液中,搅拌均匀,超声处理,干燥,得到前驱粉体;(4)将所述的前驱粉体进行等离子体改性处理,得到等离子改性处理粉体;(5)将等离子改性处理粉体在混合气氛下进行热处理,冷却,得到碲化镉靶材,具有优异的稳定性和光电性能。