授权公布号:CN216946234U
一种制备半导体用超纯氨的装置
有效
申请
2022-02-23
申请公布
1970-01-01
授权
2022-07-12
预估到期
2032-02-23
| 申请号 | CN202220370536.2 |
| 申请日 | 2022-02-23 |
| 授权公布号 | CN216946234U |
| 授权公告日 | 2022-07-12 |
| 分类号 | C01C1/02 |
| 分类 | 无机化学; |
| 申请人名称 | 湖北和远气体股份有限公司 |
| 申请人地址 | 湖北省宜昌市长阳土家族自治县龙舟坪镇龙舟大道52号(馨农家园)2栋1102号 |
专利法律状态
2022-07-12
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种制备半导体用超纯氨的装置,所述装置包括依次连通的汽化单元、用于脱硫脱水的预处理单元、脱轻单元、脱重单元和用以除水、氧和金属的后纯化单元,及用于对汽化单元和精馏系统加热的供热系统;所述装置可便捷高效地除去水、氧及金属等杂质获得超纯氨;此外供热系统的介质既提供热源,又提供冷源,实现连续化节能生产;高低沸点组分的脱除可作为工业氨回收利用,无废气排放。


