授权公布号:CN216549631U
一种制备半导体用超高纯氯化氢气体的装置
有效
申请
2021-11-09
申请公布
1970-01-01
授权
2022-05-17
预估到期
2031-11-09
| 申请号 | CN202122738081.3 |
| 申请日 | 2021-11-09 |
| 授权公布号 | CN216549631U |
| 授权公告日 | 2022-05-17 |
| 分类号 | C01B7/07 |
| 分类 | 无机化学; |
| 申请人名称 | 湖北和远气体股份有限公司 |
| 申请人地址 | 湖北省宜昌市长阳土家族自治县龙舟坪镇龙舟大道52号(馨农家园)2栋1102号 |
专利法律状态
2022-05-17
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种制备半导体用超高纯氯化氢气体的装置,以工业产品气体为原料,采用多种纯化装置、气液分离装置与高压精馏装置的结合,可实现高效脱水、去除CO2及金属离子;所述制备工艺摆脱了现有技术对原料的依赖,在生产超高纯氯化氢气体的同时产生多种品质的氯化氢气体,尾气减少的同时易于处理,适用于工业化推广。


