授权公布号：CN111338923B
埋点曝光处理方法、装置及设备
有效
申请
2020-03-03
申请公布
2020-06-26
授权
2024-03-01
预估到期
2040-03-03
| 申请号 | CN202010140044.X |
| 申请日 | 2020-03-03 |
| 申请公布号 | CN111338923A |
| 申请公布日 | 2020-06-26 |
| 授权公布号 | CN111338923B |
| 授权公告日 | 2024-03-01 |
| 分类号 | G06F11/34;G06F16/958 |
| 分类 | 计算；推算；计数; |
| 申请人名称 | 北京新氧科技有限公司 |
| 申请人地址 | 北京市朝阳区创远路34号院8号楼9层901室、10层1001室 |
专利法律状态
2024-03-01
授权
状态信息
授权
2020-07-21
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效；IPC(主分类):G06F11/34；申请日:20200303
2020-06-26
公布
状态信息
公布
摘要
本公开是关于一种埋点曝光处理方法、装置及设备。该埋点曝光处理方法包括：获取可回收控件在屏幕内所有可见的第一子控件的索引位置；仅在所述第一子控件为在屏幕内首次可见时，将该第一子控件的索引位置作为埋点数据上报给服务器。本公开提供的方案，能提高埋点分析准确性。
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