本发明涉及激光刻蚀领域，具体为双轨大幅面高速触摸屏激光刻蚀设备，其结构包括支撑其他装置的底部机架、设置于机架上待加工的工件、设置于工件两侧用于取放工件的吸附装置，所述机架上设置有两组用于工件刻蚀加工的激光刻蚀系统，所述激光刻蚀系统为双轨道结构，且两者独立运行互不干预，每组所述激光刻蚀系统均由一组刻蚀系统和一组刻蚀控制系统构成。本发明的有益效果是，针对触摸屏不同区域加工难度不同的特点，将加工区域进行划分，同一时间集中加工不同银浆厚度的区域，从而避免造成单头单轨加工效率低，而多头单轨加工时个别激光头闲置的问题，从而提高了设备的整体利用率。