授权公布号:CN215328324U
一种基材离子轰击装置
有效
申请
2021-05-07
申请公布
1970-01-01
授权
2021-12-28
预估到期
2031-05-07
| 申请号 | CN202120967944.1 |
| 申请日 | 2021-05-07 |
| 授权公布号 | CN215328324U |
| 授权公告日 | 2021-12-28 |
| 分类号 | C23C8/38 |
| 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 申请人名称 | 广东东华光电科技有限公司 |
| 申请人地址 | 广东省东莞市厚街镇汀山村坑口工业区 |
专利法律状态
2021-12-28
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种基材离子轰击装置,包括其结构本体,结构本体包括若干个阴极发射组件、若干个正极收集组件、炉体、真空负压机、压力检测器及气体压缩机;正极收集组件包括绝缘底座、伸缩杆及正极金属槽,绝缘底座设置在炉体底部内表面,炉体为双层结构,炉体包括不锈钢支撑外壳及绝缘层,真空负压机、压力检测器及气体压缩机均分别设置在不锈钢支撑外壳外表面;阴极发射组件包括负极线插头、阴极导电套、阴极导电杆、绝缘外壳、绝缘垫圈及螺母及防弧罩;离子束较为集中,轰击的渗透速度更快,加工件的硬化层相比来说更深,遍布面积广,扩散速度快,工件的变形小,整体的加工效率更加高,产品的质量更好。


