授权公布号:CN216192647U
一种离子轰击装置
有效
申请
2021-05-08
申请公布
1970-01-01
授权
2022-04-05
预估到期
2031-05-08
| 申请号 | CN202120981783.1 |
| 申请日 | 2021-05-08 |
| 授权公布号 | CN216192647U |
| 授权公告日 | 2022-04-05 |
| 分类号 | C23C8/36 |
| 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 申请人名称 | 广东东华光电科技有限公司 |
| 申请人地址 | 广东省东莞市厚街镇汀山村坑口工业区 |
专利法律状态
2022-04-05
授权
状态信息
授权
摘要
本实用新型公开了一种离子轰击装置,包括加热装置,所述加热装置包括若干发热管、第一外壳和真空室,所述真空室为胶囊状结构,所述真空室包括第二外壳、真空泵、温度传感器和镀膜组件,所述发热管与第二外壳抵接,所述真空泵设于真空室顶面,所述真空泵设有出风口和密封盖板,所述密封盖板设有密封胶圈,所述温度传感器设于真空室底面,所述镀膜组件两侧均匀设有若干镀膜夹具,通过设置加热装置可以加快设备在使用时更快速达到最佳温度。


