一种离心绑定ITO旋转靶材的方法

授权公布号：CN112831764B

一种离心绑定ITO旋转靶材的方法

有效

申请

2020-12-30

申请公布

2021-05-25

授权

2023-04-28

预估到期

2040-12-30

申请号	CN202011603040.7
申请日	2020-12-30
申请公布号	CN112831764A
申请公布日	2021-05-25
授权公布号	CN112831764B
授权公告日	2023-04-28
分类号	C23C14/35
分类	对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
申请人名称	柯盛新材料有限公司
申请人地址	湖南省长沙市经济技术开发区王家冲路18号

专利法律状态

2023-04-28 授权

状态信息

授权

2021-05-25 公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种离心绑定ITO旋转靶材的方法，属于ITO旋转靶材加工技术领域，该方法包括以下步骤：S1、预处理：对ITO靶管内壁和背管外表面进行金属化处理；S2、组装：将背管从电热管上方往下插入，以使背管插设在安装座顶面插槽内，并使安装座上的定位筒插设在背管内；将单节ITO靶管套在背管上，并使ITO靶管插设在安装座顶面插槽内，ITO靶管与背管之间设有间隙；S3、灌铟绑定：由下往上对单节ITO靶管进行逐步绑定。本发明通过转动离心，使得熔化后的铟将紧贴ITO靶管内壁，绑定率较好。