本发明公开了一种冷喷涂制造旋转靶材的工艺及其生产设备，工艺包括如下步骤：1）对基体依次进行超声波清洗、烘干、喷砂处理；2）对基体所在区域进行抽真空操作；3）将ITO粉末导入喷枪内；同时在喷枪内导入惰性气体；4）驱动控制基体旋转，并控制喷枪沿基体轴向方向运动，使得ITO靶材呈成型。通过上述步骤制备的ITO靶材，由于喷涂时始终处于氦气保护氛围中，降低了氧含量和其他杂质的混入，此外，靶材在冷喷涂时，颗粒高速撞击基体充分变形形成涂层，涂层组织致密，靶材的相对密度可以达到99.9％以上，靶材内部晶粒组织均匀细小，无缺陷组织，同时沉积效率高，降低了生产成本。