本发明属于高硼硅玻璃蚀刻技术领域，具体涉及一种高硼硅玻璃蚀刻液及其制备方法和用途。所述高硼硅玻璃蚀刻液的原料包括混合酸、氟氢化物、氟硅酸盐、表面活性剂、可溶金属硫酸盐、可溶金属盐酸盐、中间填充物和水，所述高硼酸玻璃蚀刻液的原料之间可形成稳定络合物；所述混合酸包括硫酸、硝酸、磷酸和盐酸，所述表面活性剂为硼砂。该高硼硅玻璃蚀刻液可对高硼硅玻璃进行均匀蚀刻，防眩效果好，可满足光电子领域的需求。