本发明提供了一种高透型单银低辐射镀膜玻璃及其制备方法，属于磁控溅射工艺。该技术是在原有单银膜层结构的基础上，通过改变膜层材料的吸收提高了膜层的透过率。一种高透型单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃层向外共有八层复合膜层。其中第一层为SiNx膜，第二层为ZnAlOx膜，第三层为NiCr膜，第四层为Ag膜，第五层为NiCr膜，第六层为ZnAlOx膜，第七层为ZnAlOx膜，第八层为SiNx膜，各膜层通过磁控溅射镀膜工艺依次溅射在玻璃基片上。优点：本发明具有高透过和低辐射率的特点。