一种低爬升高达因值聚氨酯保护膜及其制备方法

授权公布号：CN113462302B

有效

申请

2021-06-16

申请公布

2021-10-01

授权

2023-08-11

预估到期

2041-06-16

申请号	CN202110667561.7
申请日	2021-06-16
申请公布号	CN113462302A
申请公布日	2021-10-01
授权公布号	CN113462302B
授权公告日	2023-08-11
分类号	C09J7/25;C09J7/30;C09J175/04;C09J7/40
分类	染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用;
申请人名称	四川东材科技集团股份有限公司
申请人地址	四川省绵阳市市辖区经济技术开发区洪恩东路68号

专利法律状态

2023-08-11 授权

状态信息

授权

2021-10-26 实质审查的生效

状态信息

实质审查的生效；IPC(主分类):C09J7/25；申请日:20210616

2021-10-01 公布

状态信息

公布

摘要

本发明公开了一种低爬升高达因值聚氨酯保护膜及其制备方法，其特征是：低爬升高达因值聚氨酯保护膜由顺次的PET薄膜层、底涂层、聚氨酯胶粘剂层、离型层以及PET薄膜层复合组成。制备方法是：将聚氨酯预聚物、异氰酸酯类固化剂、耐温硬化剂、迟缓剂和有机溶剂混合制成聚氨酯胶粘剂；在PET薄膜层单面涂覆底涂液，干燥形成底涂层；将聚氨酯胶粘剂涂覆在底涂层上，再以10～35m/min的线速度通过温度65～130℃、总长度24～45m的烘道烘干，再与单面离型PET薄膜进行复合，熟化，即制得。本发明低爬升高达因值聚氨酯保护膜适用于铜箔胶带在运输、储存和制程过程中，对铜箔胶带的铜箔表面进行保护，性能良好，实用性强。