授权公布号:CN110137242B
双向功率器件及其制造方法
有效
申请
2019-04-03
申请公布
2019-08-16
授权
2024-02-23
预估到期
2039-04-03
| 申请号 | CN201910267734.9 |
| 申请日 | 2019-04-03 |
| 申请公布号 | CN110137242A |
| 申请公布日 | 2019-08-16 |
| 授权公布号 | CN110137242B |
| 授权公告日 | 2024-02-23 |
| 分类号 | H01L29/06;H01L29/10;H01L29/423;H01L29/78 |
| 分类 | 基本电气元件; |
| 申请人名称 | 杭州士兰微电子股份有限公司 |
| 申请人地址 | 浙江省杭州市黄姑山路4号 |
专利法律状态
2024-02-23
授权
状态信息
授权
2019-09-10
实质审查的生效
状态信息
实质审查的生效;IPC(主分类):H01L29/06;申请日:20190403
2019-08-16
公布
状态信息
公布
摘要
公开了一种双向功率器件及其制造方法,双向功率器件包括:半导体层;位于半导体层中的沟槽;位于所述沟槽侧壁上的栅介质层;位于所述沟槽下部的控制栅;位于所述沟槽上部的屏蔽栅,其中,所述控制栅和所述屏蔽栅彼此接触,所述控制栅与所述半导体层之间由所述栅介质层隔开。本申请的屏蔽栅位于彼此接触的控制栅上,且通过屏蔽介质层与源区和漏区隔离,双向功率器件截止时屏蔽栅通过屏蔽介质层耗尽第二掺杂区的电荷,提高耐压特性;双向功率器件导通时,源区和/或漏区与半导体层提供低阻抗的导通路径。


