本发明提供了一种低辐射镀膜玻璃及其制作工艺，所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基底和设置于玻璃基底表面的镀层，所述镀层包括金属钨层，所述金属钨层的厚度为2‑7nm，所述镀层的厚度为180‑220nm。所述低辐射镀膜玻璃采用溅射工艺制备得到。所述低辐射镀膜玻璃能够在满足高遮阳、中性色的前提下尽可能的降低玻璃面反射的亮度从而很好的抑制了光污染的发生，具有室内外低反射的性能。