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2010-03-19创立 上海 021-62787600
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行业分布
智能科技、半导体、CMP抛光液
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产品
半导体CMP化学机械抛光液 CMP后清洗液 半导体光刻胶 硬掩模材料 先进封装光刻胶 感光绝缘膜 显示光学材料 生命科学高分子材料
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捷思尔JSR品牌介绍

JSR捷思尔1957年在日本东京成立,前身为日本合成橡胶株式会社,东京证券交易所上市企业,是全球顶尖的综合精细化学与半导体材料厂商。企业深耕高分子化学领域数十年,业务布局电子材料、生命科学、功能塑料三大板块,半导体材料是核心业务板块之一,在全球多地设立研发中心与生产基地,中国上海建有技术研发中心,专门面向国内晶圆厂提供材料评测、工艺验证等本地化技术支持。JSR是全球半导体前道关键材料核心供应商,产品覆盖从成熟制程到先进制程全节点,凭借稳定的材料性能、低缺陷控制能力,长期供应全球头部晶圆制造企业,在光刻胶、CMP抛光材料领域拥有全球领先的市场份额。

JSR的CMP抛光液是芯片晶圆平坦化工艺核心耗材,产品线覆盖氧化物、钨、铜等不同工艺场景,适配逻辑芯片、存储芯片先进制程需求,配套CMP后清洗液产品,用于去除抛光后晶圆表面的颗粒、金属离子与有机残留。抛光液采用自研纳米磨粒配方,精准控制研磨速率、研磨选择比,有效降低晶圆表面划痕、凹陷等缺陷,保障多层金属布线的平整度,满足7nm及以下先进制程严苛工艺要求。除CMP材料外,JSR半导体材料还包含g/i线、KrF、ArF浸没式光刻胶、多层硬掩模、厚膜光刻胶、感光绝缘膜等,覆盖晶圆前道光刻、平坦化以及先进封装全流程,可为芯片制造企业提供一站式半导体材料方案。

JSR可为晶圆制造、半导体封测企业提供材料选型、工艺测试、样品验证、量产交付与长期工艺技术支持,依托上海本地技术中心,可快速开展抛光工艺匹配、缺陷分析、配方调试,缩短客户新材料导入周期。品牌持续迭代CMP抛光液、光刻胶等先进半导体材料,不断优化纳米粉体配方、化学体系,面向国内外晶圆厂、存储芯片厂商,提供CMP抛光液、光刻胶等半导体关键耗材,助力先进制程芯片制造工艺稳定落地,支撑集成电路产业的发展。


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公司名称:
捷时雅(上海)商贸有限公司
法人代表:
脇山 恵介(WAKIYAMA KEISUKE)
发源地:
上海
创立时间:
2010-03-19
企业地址:
中国(上海)自由贸易试验区富特北路211号302-321室
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