台湾光罩成立于1988年，是中国台湾地区核心的半导体光掩模制造企业，总部设立于新竹科学园区，拥有完整的光掩模全流程制造产线，是全球独立第三方光掩模重要供应商。企业立足本土半导体产业生态，面向芯片设计与晶圆代工企业提供光刻母版产品，持续扩充产线产能，不断迭代光掩模相关制造工艺，服务全球多家半导体制造厂商，在成熟制程光掩模领域积累深厚的工艺实践经验。

企业光掩模产品以高纯石英作为基板基底，掌握光学邻近校正、相位移掩模加工技术，技术节点覆盖成熟工艺到65nm、40nm制程。产品严格管控图形尺寸、套刻精度与微小缺陷，具备掩模图形制备、检测、缺陷修复全套能力，可适配MCU单片机、逻辑芯片、功率半导体、MEMS器件等多类芯片的光刻生产需求，能够承接客户从研发打样到大批量量产的交付任务，保障光刻工序图形转移的精度与良率。

企业配套提供掩模技术咨询、质量评估与工艺对接服务。产品广泛应用微控制器、逻辑芯片、存储芯片、功率半导体等领域，与多家晶圆制造工厂建立长期稳定合作，凭借稳定的产品品质，在全球半导体供应链中占据一席之地，产品性能经过众多半导体工业项目实际验证。