本发明公开了一种半导体设备工艺运行状态的管理方法，包括：根据半导体工艺流程创建工艺运行状态队列、事件列表和转换函数；根据上述工艺运行状态队列、事件列表和转换函数生成二维状态转换表；对所述二维状态转换表逐行或逐列查询，依次生成多个状态源临时管理文件，每一所述状态源临时管理文件记录一个所述工艺运行状态，其配置的一个所述转换事件，以及所述工艺运行状态经该转换事件后的状态结果；以及将全部所述状态源临时管理文件合并生成动态配置管理文件。本发明能够解决特定工艺和异常处理等状态转换效率低下和逻辑复杂造成的成功率低的问题。